几天后，在星图团队的核心实验室中，星图站在一块巨大的显示屏前，屏幕上展示着他们光刻机项目的最新进展。团队成员们围在星图周围，每个人的眼神中都透露着专注和期待。
星图：“我们的初步任务已经完成，现在是时候向更高的精度发起挑战。我命令，立即开始第二阶段工作，构建模型和检测光刻机精度的仪器与系统。”
实验室内的气氛瞬间变得更加紧张，每个人都清楚，这将是一场技术的极限挑战。
李思远负责光学系统的设计：“星图院士，我们已经准备好开始构建光刻机的光学模型。通过模拟不同光源和光学配置，我们可以优化光刻机的分辨率和聚焦精度。”
章程中院士专注系统集成：“同时，我们正在设计一套精密的检测系统，它将能够实时监测光刻机的运行状态，包括光源的稳定性、光学系统的对准精度以及机械运动的精度。这将是我们提高光刻机精度的关键。”
星图团队深知，要达到与ASML公司EUV光刻机相媲美的精度，他们必须在光学设计、机械加工、软件算法等多方面实现突破。他们开始研究ASML的成功案例，尤其是EUV光刻机的创新点，包括13.5纳米的极紫外光源的应用，以及蔡司提供的高精度光学系统。
星图：“ASML的成功在于其全球化的供应链和技术创新。我们要借鉴他们的模式，同时，我们也要建立自己的核心竞争力。我们的目标不仅仅是5纳米，我们要追求更小的线宽，更高的集成度。”
星图团队意识到，光刻机的制造是一个高度全球化的工程，涉及光学、机械、电子、软件等多个领域，任何一个环节的失误都可能导致整体性能的下降。因此，他们开始一开始的目标就是与全球顶尖的科研机构和企业一较高下，这要求他们在关键技术和核心部件上加大自主研发的力度。
星图朗声：“很好，各位，我们要在全球化的舞台上展现我们的实力，同时，我们也要保护好自己的核心技术。只有精度超过5nm（纳米)，我们才能在光刻机领域占据一席之地，否则其他太低的精度，不太有竞争力。”
“好！加油。”
星图团队的实验室，成为了全球科技合作与竞争的缩影。他们知道，光刻机的精度提升之路充满挑战，但正是这些挑战，激发了他们创新的火花，推动着人类科技的不断进步。
随后星图看着大家在光刻机实验室中努力研究，又看着四周是闪烁的屏幕和复杂的机械装置，回想起以前当医生的一些事还有光刻机的许多事来。实验室里轻微的机械运转声和电子设备的轻微嗡嗡声，以及成员们的操作机器音，营造出一种科技与宁静并存的氛围。
星图自言自语：“光源技术的突破，光学系统的精进，掩模版技术的革新，光刻胶与涂布技术的进步，精密机械与运动控制的优化，实时监控与反馈系统的完善，软件算法与数据处理的智能升级……每一个细节都凝聚着科技的力量，每一个进步都是对极限的挑战。”
他走到一台正在运转的机器前，手指轻轻滑过光刻机的表面，仿佛在感受着科技的温度。
星图：“光刻机的每一次升级，都不仅仅是技术上的进步，更是对未来的投资。它推动着半导体行业的发展，影响着全球科技的格局。每一次精度的提升，都意味着更小的特征尺寸，更高的集成度，更强的芯片性能，更广阔的应用前景。”
他转身面对着实验室的窗户，外面是夜幕降临的城市，灯火辉煌。星图的目光穿透了窗户，仿佛看到了未来的无限可能。
星图深吸一口气，心中暗自下决心，一定要带领团队攻克光刻机的难关。
他回到控制台前，仔细查看各项数据。
随后星图询问脑海中的系统如何通过改进光刻胶的配方，进一步提高光刻的分辨率，系统回答了星图的疑问。
星图身处一个充满未来感的实验室，周围环绕着先进的化学分析仪器和光刻设备。他站在一台高精度的光刻机旁，凝视着屏幕上复杂的分子结构和光刻过程数据，眼神中流露出对技术的无限热爱与探索的渴望。
星图轻声自语对着脑海中的智能系统询问：“我们已经在光刻机的光学系统和掩模版技术上取得了突破，但这还不够。光刻胶的性能直接影响着光刻的分辨率，我感觉还有提升的空间。系统，你能给我解释一下，如何通过改进光刻胶的配方来进一步提高光刻的分辨率吗？”
系统在星图的脑海中回应：“当然，星图。光刻胶是光刻过程中的关键材料，它的性能直接影响着光刻图案的精度和分辨率。改进光刻胶的配方主要可以从以下几个方面入手：
提高光刻胶的感光性：通过优化光引发剂的种类和浓度，可以提高光刻胶对特定波长光的敏感度，比如使用适当浓度的硅酸，α-羟基酮类、苯偶酰类从而实现更精细的图案转移。
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